根吸收是牙移植及牙创伤后再植的并发症
一、根吸收是牙移植及牙创伤后再植很普遍的并发症。通常牙吸收分为四种情况：表面吸收：根面上有吸收陷窝，无炎症细胞，仅局限于牙骨质。是由于牙周膜或牙骨质局部小区域的轻微损伤所引起，具有限性，并表现新生牙骨质的自发性修复及牙击膜再附着。
炎症 性吸收（IR）：牙根表面既有吸收陷窝，又有炎症浸润。它是由于牙周膜、牙骨质的创伤导致较深的吸收腔，牙本质小管暴露，髓腔中的感染坏死组织沿小管到达牙周组织中，引起炎症反应，替代性吸收（RR）：是牙周膜及牙骨质吸收严重，并被骨组织所替代。
一般认为牙再植后牙根是滞吸收及吸收的类型主要是由多种因素所决定，最主要是牙创伤后暴露于牙槽窝外的时间长短及这一时间内是否有合适的介质保存。
减少牙吸收的研究主要有以下几个方面：
1、牙创伤后到再植的时间：即牙齿脱离牙槽窝到重新植入所间隔的时间。牙周膜活力是决定再植牙预后的关键，贮存时间越短，牙周膜活力越强，Aadrearen[1]及Iqbal[2]认为18分钟以内牙再值，受损伤的牙周膜可恢复，随着时间的延长，开周膜愈合的能力下降，30分钟至75分钟，牙周膜基本无活性，但牙拔除后将牙置于湿性环境（如生理盐水、牛奶中，可降低牙周膜坏死的程度。）活性显著降低，90分钟后根面只有10%牙周膜维持活性状态。
2、局部用药：是减少根吸收而无法阻止吸收的一种方法。Shulman和Sevig用氟化物和抗菌素减少由于坏死牙周膜造成根吸收，levin则采用ALD来阻止破骨细胞来缺少活笥牙周膜的吸收，增加了牙周膜细胞增殖、分化并维持虐待骨质层。
釉质基质衍生物（EMD）是从釉基质提取的活性，不溶于水，是作为牙周膜再生活疗的基质，含有属于amelogenin族，Hammarstrom证实，1997年通过细胞培养，为EMD与间充质的细胞接触，在其表面产生非细胞性牙骨质，在动物实验时证实牙拔除后将人为造成的小部位牙骨质缺损，EMD可促进牙骨质再生。
2001年
Lyngstadaas通过Prpol细胞培养，从分子细胞学机制方面，EMD可显著增加Pol细胞附着，生长及代谢，释放生长因子进入界质，细胞作用产生细胞内CAMP信号，通过这细胞分泌TGF-B，IC-6和PDGF AB，有于Pol含合和再生。1997年，Gestrelius认为EMD可增加Pol细胞增殖，增加蛋白质合成，促进Pol细胞矿化小结成。
近年来，EMD逐渐用于牙槽骨缺损为标志的牙周炎串者中。
